[发明专利]一种MEMS压阻式压力传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110742876.3 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN113483925A 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 武斌;许克宇 申请(专利权)人: 深圳市美思先端电子有限公司
主分类号: G01L1/22 分类号: G01L1/22;G01L9/04;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 代理人: 廉红果
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公明街道塘家社区观*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种MEMS压阻式压力传感器及其制备方法,其中,压力传感器包括具有线性渐变梁膜结构的硅应变膜、压敏电阻、重掺杂接触区域,金属引线,所述硅应变膜为硅衬底的正面经过腐蚀工艺并键合硅片层所形成的,所述压敏电阻位于梁膜结构的端部,所述金属引线和重掺杂接触区在硅应变梁膜的正面形成欧姆接触。本发明通过采用在硅衬底的正面设置具有线性渐变的梁膜结构、压敏电阻、重掺杂接触区以及金属引线并键合硅片所形成的压阻式压力传感器,使得通过调节渐变梁结构的线性变化比例,达到提高压力传感器线性度的目的,以及通过调整压敏电阻与渐变梁结构之间的尺寸大小,实现提高灵敏度的目的。
搜索关键词: 一种 mems 压阻式 压力传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
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