[发明专利]三维存储装置及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202110738700.0 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN115548024A 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 张坤;吴林春;吴双双;周文犀 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11575;H01L27/11582;H01L27/11524;H01L27/11548;H01L27/11556
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 刘恋;张颖玲
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种三维存储装置及其制作方法。其中,所述三维存储装置包括:半导体层;位于所述半导体层上的第一堆叠结构;贯穿所述第一堆叠结构的栅缝隙;填充所述栅缝隙的绝缘层,以及设于所述绝缘层中的第一导电柱,所述第一导电柱靠近所述半导体层的一端与所述半导体层之间包括部分所述绝缘层。
搜索关键词: 三维 存储 装置 及其 制作方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110738700.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top