[发明专利]一种低放射性陶瓷釉料的制备方法及其制备的陶瓷釉料有效
| 申请号： | 202110686098.0 | 申请日： | 2021-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN113264681B | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 王彦庆;杨晖;常宇成;王宇梅;宋子春;檀瑞超;吴传琦;赵晓畅;李涛;董子红;马燕丽;田磊;汪丽敏;高惠;杨艳云 | 申请（专利权）人： | 惠达卫浴股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/20 | 分类号： | C03C8/20 |
| 代理公司： | 深圳国海智峰知识产权代理事务所(普通合伙) 44489 | 代理人： | 刘军锋;臧芳芳 |
| 地址： | 063307 河北*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及陶瓷釉料技术领域，尤其涉及一种低放射性陶瓷釉料的制备方法及其制备的陶瓷釉料。制备方法包括如下步骤：(1)预磨：将工业硅酸锆研磨至0.3μm≤D10≤0.4μm，0.8μm≤D50≤1μm，D90≤2.5μm，得硅酸锆预磨浆料；(2)终磨：不经烘干，将所述硅酸锆预磨浆料直接与钾长石、钠长石、石英、氧化铝、方解石、白云石、硅灰石、熔块、氧化锌和高岭土混合，加水后进行球磨，过筛，得釉浆；(3)施釉、烧制：以所述釉浆施釉，煅烧，得产品。本发明通过对工业硅酸锆进行预磨处理，控制硅酸锆颗粒级配，使其粒度最大程度分布在可见光波长范围内，在保证陶瓷釉料硬度和白度的前提下降低硅酸锆的用量，从而实现陶瓷釉料的低放射性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 放射性 陶瓷 釉料 制备 方法 及其 | ||
【主权项】：
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