[发明专利]用于与工具对接的掩模版盒转换板在审
| 申请号： | 202110654328.5 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113805429A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | M·拉加-巴龙 | 申请（专利权）人： | 格芯（美国）集成电路科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 贺月娇;牛南辉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于与工具对接的掩模版盒转换板。本文公开的示例性装置包括板和位于板的正表面上的掩模版盒接纳结构，掩模版盒接纳结构至少部分地界定正表面上的掩模版盒接纳区域。在该示例中，板的背表面具有适于与多个销钉接合的销钉接合结构，以及适于在掩模版盒被定位在掩模版盒接纳区域中时允许与掩模版盒的内部区域流体连通的流体流动通道。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 工具 对接 模版 转换 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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