[发明专利]用于与工具对接的掩模版盒转换板在审
申请号: | 202110654328.5 | 申请日: | 2021-06-11 |
公开(公告)号: | CN113805429A | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | M·拉加-巴龙 | 申请(专利权)人: | 格芯(美国)集成电路科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 贺月娇;牛南辉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 工具 对接 模版 转换 | ||
本发明涉及用于与工具对接的掩模版盒转换板。本文公开的示例性装置包括板和位于板的正表面上的掩模版盒接纳结构,掩模版盒接纳结构至少部分地界定正表面上的掩模版盒接纳区域。在该示例中,板的背表面具有适于与多个销钉接合的销钉接合结构,以及适于在掩模版盒被定位在掩模版盒接纳区域中时允许与掩模版盒的内部区域流体连通的流体流动通道。
技术领域
本公开一般地涉及用于与工具对接的新型掩模版盒转换板以及使用这种转换板的方法的各种实施例。
背景技术
掩模版被用于制造集成电路产品。掩模版包含期望形成在其中形成有集成电路的半导体衬底(或晶片)上的图案。典型的掩模版包括具有图案的石英板,该图案在掩模版一侧的薄铬层中限定。使用光刻工具和技术将掩模版上的图像投影到形成在晶片表面上的光致抗蚀剂材料层的表面上。此后,对光致抗蚀剂材料层进行显影,以产生包含掩模版上的图像的图案化掩模层。掩模版制造昂贵,并且必须小心处理以免破坏掩模版中限定的图案。
掩模版在不使用时也必须安全地存储,并且在需要时可以容易地取回。通常,单个掩模版被存储在保护性掩模版盒的内部区域中。当掩模版盒(其中具有掩模版)定位在净化的存储位置上时,将加压的惰性气体引入掩模版盒的内部区域中。对掩模版盒执行各种处理操作以确保其适合用于存储掩模版,例如执行湿度测试、颗粒污染测试、清洁等等。这些各种操作由制造集成电路产品的工厂内的复杂工具执行。
本公开一般地涉及用于与工具对接的新型掩模版盒转换板以及使用这种转换板的方法的各种实施例。
发明内容
以下提供了本发明的简化的发明内容,以便提供对本发明某些方面的基本理解。该发明内容不是本发明的穷举性概述。并不旨在标识本发明的关键或重要元素或描绘本发明的范围。其唯一目的是以简化的形式提出一些概念,作为稍后讨论的更详细描述的序言。
一般来说,本公开涉及用于与工具对接的新型掩模版盒转换板以及使用这种转换板的方法的各种实施例。本文公开的示例性装置包括板和位于所述板的正表面上的掩模版盒接纳结构,所述掩模版盒接纳结构至少部分地界定所述正表面上的掩模版盒接纳区域。在该示例中,所述板的背表面具有适于与多个销钉(pin)接合(engage)的销钉接合结构,以及适于在掩模版盒被定位在所述掩模版盒接纳区域中时允许与所述掩模版盒的内部区域流体连通的流体流动通道。
本文公开的另一示例性装置包括板和位于所述板的正表面上的掩模版盒接纳结构,所述掩模版盒接纳结构至少部分地界定所述正表面上的掩模版盒接纳区域。在该示例中,所述装置还包括从所述板的所述正表面延伸到所述板的所述背表面的开口;以及位于所述开口附近的接合表面,其中所述接合表面具有位于所述板的所述正表面的水平面(level)下方的水平面的表面。
本文公开的又一示例性装置包括板和位于所述板的正表面上的掩模版盒接纳结构,所述掩模版盒接纳结构至少部分地界定所述正表面上的掩模版盒接纳区域。在该示例中,所述装置还包括掩模版盒板固定机构,所述掩模版盒板固定机构可操作地耦接到所述板或所述掩模版盒接纳结构中的至少一者,其中所述掩模版盒板固定机构适于与掩模版盒的表面接合,以将所述掩模版盒固定在所述掩模版盒接纳区域中。
附图说明
通过参考结合附图(未按比例绘制)进行的以下描述,可以理解本公开,在附图中,相同的参考标号表示相同的元素,并且其中:
图1是本文公开的新型掩模版盒转换板的一个示例性实施例的顶视透视图;
图2是本文公开的新型掩模版盒转换板的一个示例性实施例的底视透视图;
图3和图4是本文公开的新型掩模版盒转换板的一个示例性实施例的正表面的一部分的视图,其示出了本文公开的空气流动通道的一个示例性实施例;
图5是本文公开的新型掩模版盒转换板的一个示例性实施例的分解顶视透视图;
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