[发明专利]电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组在审

专利信息
申请号: 202110618101.5 申请日: 2021-06-03
公开(公告)号: CN113764606A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 池永知加雄;井上功;中村阳子 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王博;褚瑶杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组。电子器件的制造方法具备下述工序:准备工序,准备层积体,该层积体包含具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板、位于基板的第1面上的2个以上的第1电极、和第1电极上的有机层;第2电极形成工序,按照沿着基板的第1面的法线方向观察时重叠在2个以上的第1电极上的方式,在有机层上形成第2电极;和除去工序,将第2电极中俯视时位于第1电极之间的区域局部性除去。
搜索关键词: 电子器件 制造 方法 蒸镀掩 模组
【主权项】:
暂无信息
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