[发明专利]电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组

说明书

本发明涉及电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组。电子器件的制造方法具备下述工序：准备工序，准备层积体，该层积体包含具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板、位于基板的第1面上的2个以上的第1电极、和第1电极上的有机层；第2电极形成工序，按照沿着基板的第1面的法线方向观察时重叠在2个以上的第1电极上的方式，在有机层上形成第2电极；和除去工序，将第2电极中俯视时位于第1电极之间的区域局部性除去。

技术领域

本发明的实施方式涉及电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组。

背景技术

在智能手机、平板电脑等便携式设备中使用的显示装置优选为高清晰，例如像素密度优选为400ppi以上。另外，在便携式设备中，对于应对超高清(UHD)的需求也在提高，该情况下，显示装置的像素密度例如优选为800ppi以上。

在显示装置中，由于响应性良好、功耗低及对比度高，有机EL显示装置受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知使用蒸镀掩模以所期望的图案形成像素或电极的方法，该蒸镀掩模形成有以所期望的图案排列的贯通孔。例如，首先，准备以与像素对应的图案形成有第1电极的基板。接着，通过蒸镀掩模的贯通孔使有机材料附着于第1电极上，在第1电极上形成发光层。接着，通过蒸镀掩模的贯通孔使导电性材料附着于发光层上，在发光层上形成第2电极。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-115672号公报

发明内容

发明所要解决的课题

作为有机EL显示装置中的第2电极的类型，可以考虑第2电极展开在基板的整个区域的类型、和按照基板上具有不存在第2电极的区域的方式形成了第2电极的类型。在后者的情况下，需要适当控制俯视时的第2电极的形状的方法。

用于解决课题的手段

本发明的一个实施方式的电子器件的制造方法具备下述工序：准备工序，准备层积体，该层积体包含具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板、位于基板的第1面上的2个以上的第1电极、和第1电极上的有机层；第2电极形成工序，按照沿着基板的第1面的法线方向观察时在2个以上的第1电极上重叠的方式，在有机层上形成第2电极；和除去工序，将第2电极中俯视时不与第1电极重叠的区域局部性除去。

发明效果

根据本发明，能够适当控制俯视时的第2电极的形状。

附图说明

图1是示出本发明的一个实施方式的电子器件的一例的截面图。

图2是将图1的电子器件放大示出的截面图。

图3是将图1的电子器件放大示出的俯视图。

图4A是将图2的电子器件进一步放大示出的截面图。

图4B是将图4A的第2电极放大示出的截面图。

图4C是用于说明第2电极的厚度的平均值的计算方法的图。

图4D是示出第2电极的一例的俯视图。

图5是示出形成有第1电极的状态的基板的一例的截面图。

图6是示出形成有第1电极的状态的基板的一例的俯视图。

图7是示出形成有第1电极和有机层的状态的基板的一例的截面图。

图8是示出形成有第1电极和有机层的状态的基板的一例的俯视图。

图9是示出形成第1有机层的工序的一例的截面图。

图10是示出形成第2有机层的工序的一例的截面图。