[发明专利]图像传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202110593957.1 申请日: 2021-05-28
公开(公告)号: CN113380844A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 林铭祥;陈昀澔;吴国裕;卢泽华 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 用于子像素的多个光伏结可以形成在半导体衬底中。在减薄半导体衬底的背面之后,可以在减薄的半导体衬底的背侧表面上形成至少一个透明折射结构。每个透明折射结构具有可变厚度,该可变厚度随着距离穿过子像素的第二导电型柱结构的几何中心的垂直轴线的横向距离的减小而减小。包括光学透镜的子像素光学组件可以在至少一个透明折射结构上方形成。每个透明折射结构可以减小向下传播到光电探测器中的光的倾斜角,增加光的全内反射并提高光电探测器的效率。本申请的实施例还涉及图像传感器及其形成方法。
搜索关键词: 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
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