[发明专利]基于台阶状P型CBN与SiC混合结构的4H-SiC二极管及制备方法有效

专利信息
申请号: 202110559929.8 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113517356B 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 李京波;王小周;赵艳 申请(专利权)人: 浙江芯科半导体有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L29/36;H01L21/329
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李园园
地址: 311400 浙江省杭州市富*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种基于台阶状P型CBN与SiC混合结构的4H‑SiC二极管,包括:自下而上依次层叠设置的欧姆接触电极、N型SiC衬底层、N型SiC外延层和肖特基接触电极,其中,肖特基接触电极位于N型SiC外延层的中间区域;N型SiC外延层上表面的边缘形成阶梯状环形台阶;N型SiC外延层上表面的中间区域设置有T型凹槽;N型SiC外延层上表面边缘的底层的台阶面上设置有第一P型注入区;N型SiC外延层上表面边缘的中间层和顶层的台阶面上设置有第一P型终端;T型凹槽的外围绕设有第二P型终端;T型凹槽的下方设置有第二P型注入区。本发明的4H‑SiC二极管,提升了中间区域的正向电流导通路径,通过P型氮化硼和碳化硅材料之间的调控,可以提高电场分布均匀性。
搜索关键词: 基于 台阶 cbn sic 混合结构 二极管 制备 方法
【主权项】:
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