[发明专利]功率集成二极管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202110542357.2 申请日: 2021-05-18
公开(公告)号: CN113140559B 公开(公告)日: 2023-08-15
发明(设计)人: 黄昌民;李学会 申请(专利权)人: 无锡昌德微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/07 分类号: H01L27/07;H01L21/82;H01L29/06
代理公司: 北京睿博行远知识产权代理有限公司 11297 代理人: 张燕平
地址: 214000*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种功率集成二极管及其制造方法,包括高压慢恢复二极管、多晶硅二极管和多晶硅电阻,该发明中:功率集成二极管中的阻尼电阻Rdamp能使震荡进行衰减,改善了EMI性能;并联二极管Dclp_2能提升电路效率,且对Mosfet上的尖峰脉冲进行更好嵌位;各P型区均由P‑区和P+区组成以及外延层采用双层外延,使器件反向恢复时间trr进一步增大;终端区P型场限环与有源区P型区同时制造减小了光刻次数,节省了制造成本;中低压多晶硅二极管的P型区与高压慢恢复二极管的P区同时制造,且该多晶硅二极管的P型注入利用场氧进行注入阻挡,不需要单独的光刻,减少工艺步骤,节省制造成本。
搜索关键词: 功率 集成 二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
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