[发明专利]具有电容在晶体管上方的存储单元结构在审

专利信息
申请号: 202110523327.7 申请日: 2021-05-13
公开(公告)号: CN113675199A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 卢超群 申请(专利权)人: 钰创科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种存储单元结构。所述存储单元结构包含一硅基板,一晶体管,一位线,和一电容。所述硅基板具有一硅表面。所述晶体管耦接所述硅表面,其中所述晶体管包含一栅极结构、一第一导通区以及一第二导通区。所述位线电耦接所述晶体管的第一导通区以及位在所述硅表面下方。所述电容位在所述晶体管上方以及电耦接所述晶体管的第二导通区。因此,相较于现有技术所述存储单元结构具有更致密的结构,较小的面积,较低的漏电流,较高的电容值等优点。
搜索关键词: 具有 电容 晶体管 上方 存储 单元 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于钰创科技股份有限公司,未经钰创科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110523327.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top