[发明专利]存储器件以及形成存储器件的方法

摘要

本发明涉及存储器件以及形成存储器件的方法。提供了一种存储器件，包括基底层、绝缘层、第一电极、开关元件、帽盖元件和第二电极。绝缘层可以布置在基底层上方并且可以包括具有相对的侧壁的凹槽。第一电极可以至少部分地布置在绝缘层的凹槽内并沿着绝缘层的凹槽的相对的侧壁。开关元件可以至少部分地布置在绝缘层的凹槽内并沿着第一电极。帽盖元件和第二电极可以至少部分地布置在绝缘层的凹槽内。帽盖元件可以布置在第二电极和开关元件之间，并且第二电极的一部分可以跨帽盖元件延伸以接触开关元件。