[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 202110459666.3 申请日: 2021-04-27
公开(公告)号: CN113192949A 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 严强生;刘冲;陈宏 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 周耀君
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种半导体器件,包括:基底,具有第一区域和第二区域,所述第一区域位于相邻的两个所述第二区域之间;三个子漏区,位于所述基底的第一区域内;两个dummy结构,分别位于相邻两个所述子漏区之间的所述基底上;源区,位于所述基底的第二区域内;栅极结构,位于所述第一区域和第二区域之间的所述基底上;本发明通过所述dummy结构来提高器件的ESD能力,且无需现有技术的SAB光罩也不需引入新的工艺流程,能够直接在制造工艺中同步形成所述dummy结构,以降低器件的制造成本。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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