[发明专利]聚焦环对准测量装置、系统、方法及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110458764.5 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN115249605A | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 陈煌琳;连增迪 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;G01B11/27 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 曹媛;张双红 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种聚焦环对准测量装置、系统、方法及等离子体处理装置，所述聚焦环对准测量装置包括：板状主体；定位结构，设置在所述板状主体上；传感器，设置在所述板状主体上，用于向所述聚焦环的内侧面发射信号；在测量时，所述板状主体被放置在静电夹盘上，通过所述定位结构实现所述板状主体与所述静电夹盘之间的定位，通过所述聚焦环的内侧面的多个位置的信号反馈测量所述聚焦环相对所述静电夹盘中心的偏移量。本发明解决了现有技术中开腔更换聚焦环效率低、成本高，不开腔更换又无法控制对中性的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 对准 测量 装置 系统 方法 等离子体 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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