[发明专利]一种掩膜板、制备及其应用在审
| 申请号： | 202110453539.2 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113201710A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 茆胜 | 申请（专利权）人： | 睿馨（珠海）投资发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 上海洞鉴知识产权代理事务所(普通合伙) 31346 | 代理人： | 刘少伟 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市横琴新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜板、制备及其应用，掩膜板包括至少两层：第一掩膜层和第二掩膜层；所述第一掩膜层含有残余拉应力的第一材料；所述第二掩膜层含有残余压应力的第二材料；所述第一掩膜层和第二掩膜层都保留了其在刚性基板上形成时残余应力的特征；当所述掩膜板释放其内部残余应力，所述第二掩膜层横向膨胀，所述第一掩膜层横向收缩，所述掩膜板被残余应力共同作用达到最低的应变能状态。有益效果是：本发明的结构使得掩膜板的应力零位面从其结构中间位置产生偏移，从而产生垂直于掩膜板面的力矩。当应用时，由于应力作用补偿了重力对掩膜板结构的影响，从而减少了阴影效应的影响，提高了材料沉积的图案化精度，使得高分辨率的直接图案化技术成为可能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 制备 及其 应用 | ||
【主权项】：
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