[发明专利]可直接在半导体表面光刻且功函数可调的PDEOT:PSS功能墨水在审
| 申请号： | 202110442652.0 | 申请日： | 2021-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN113174166A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 王以轩;黄聪聪;胡文平 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C09D11/52 | 分类号： | C09D11/52;C09D11/102;C09D11/106;G03F7/004 |
| 代理公司： | 天津创智睿诚知识产权代理有限公司 12251 | 代理人： | 李蕊 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可直接在半导体表面光刻且功函数可调的PDEOT:PSS功能墨水，制备方法，包括：将聚合物PEDOT:PSS溶液、表面活性剂、光引发剂、光交联剂和电子掺杂剂混合均匀，得到所述PDEOT:PSS功能墨水，选择基于溶液法制备作为电极的墨水层，可以避开在热蒸发过程中，金属离子会渗透到有机半导体层中，破坏分子堆积结构，影响场效应晶体管性能。同时通过调节功函数可以解决墨水层与有机半导体层的能级不匹配，降低注入势垒，使得器件性能提高。 | ||
| 搜索关键词： | 直接 半导体 表面 光刻 函数 可调 pdeot pss 功能 墨水 | ||
【主权项】：
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