[发明专利]一种二维过渡金属硫族化合物的制备方法在审
申请号: | 202110386315.4 | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN113089088A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 辛星;陈佳美;张艳梅;刘为振;徐海阳 | 申请(专利权)人: | 东北师范大学 |
主分类号: | C30B25/00 | 分类号: | C30B25/00;C30B29/46;C30B29/64;C23C16/30;C23C16/01;C23C16/56 |
代理公司: | 长春市东师专利事务所 22202 | 代理人: | 张铁生;刘莹 |
地址: | 130024 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明公开了一种二维过渡金属硫族化合物的制备方法,它包括:1)二维过渡金属硫族化合物单晶及薄膜的制备:2)高分子聚合物保护层的涂覆;3)电化学鼓泡转移二维过渡金属硫族化合物单晶及薄膜;4)高分子聚合物保护层的去除;制备的硫族化合物薄膜厚度为0.7~1.0nm;化合物单晶层数为1~10层,整个材料成分均一、厚度可控;优点:1)本方法制备速度快;2)本方法可在常压下进行,具有操作方便、易于调控和易于大面积制备等特点;3)金基底得以反复利用,从而降低制备成本;4)制备的单晶及薄膜,具有高结晶质量,均匀层数,优异的可见光透过性及较高的光致发光特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 二维 过渡 金属 化合物 制备 方法 | ||
【主权项】:
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