[发明专利]逐片连续生产的化学沉积设备在审
申请号: | 202110381818.2 | 申请日: | 2021-04-09 |
公开(公告)号: | CN115198254A | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 黄信翔;黄信航 | 申请(专利权)人: | 黄信翔;黄信航 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;曹娜 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种逐片连续生产的化学沉积设备,包括:沉积反应槽、移动机构及多个载具;沉积反应槽内于两个长槽壁分别安装多个喷流模块,喷流模块是采用斜置角度持续喷出反应液;移动机构安装于沉积反应槽外壁,包括马达、传动组件及两组链条组,链条组设有多个承接件,马达经由传动组件带动两个链条组同步移动;载具包括横杆及两承架,两承架固定于横杆且于另一侧具有开口,开口供放入电路板,横杆两端断面为非圆形且架设于两个承接件内;借此本发明载具不易晃动且采用直立形态承载电路板移动,配合反应液以斜置方式喷流至电路板表面和孔内壁,有效率地将金属沉积于电路板表面和孔内壁且避免气泡残留其中。 | ||
搜索关键词: | 连续生产 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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