[发明专利]一种真空沉积设备的炉门进气系统在审
申请号: | 202110356995.5 | 申请日: | 2021-04-01 |
公开(公告)号: | CN113061873A | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 陶俊;张三洋;王雪楠;高根震;刘永法;姚丽英 | 申请(专利权)人: | 无锡琨圣智能装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人: | 吴忠义 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种真空沉积设备的炉门进气系统,包括炉门底板、外炉门和内炉门,内炉门的前端下部设置有桨,内炉门上贯穿设置有若干第一进气口,内炉门的前端面设置有若干第一气体导流罩,每个第一气体导流罩扣在内炉门的前端面上并通过螺丝与内炉门固定连接,第一气体导流罩与内炉门之间形成集气腔体,第一气体导流罩上设置有与集气腔体连通的第二进气口和第一出气口,第一进气口的内端部与第二进气口通过导气管连接,第一出气口的出气方向与炉尾方向存在夹角。本发明提供的真空沉积设备的炉门进气系统,改善进气方式,提高工艺腔体内的气体均匀性,在桨上设置进气口,在工艺腔体的中部进行补气,从而保证炉尾处有充足的工艺气体。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 沉积 设备 炉门 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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