[发明专利]包括外延源极线和位线的存储阵列在审

专利信息
申请号: 202110327370.6 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN113594166A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 杨柏峰;杨世海;张志宇;徐志安;林佑明 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11517 分类号: H01L27/11517;H01L27/11551;H01L27/11526;H01L27/11563;H01L27/11573;H01L27/11578
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 朱亦林
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开涉及包括外延源极线和位线的存储阵列。公开了一种3D存储阵列及其形成方法,其中,水平合并并且垂直不合并的外延源极/漏极区域被用作源极线和位线。在实施例中,一种存储阵列包括:第一沟道区域,在半导体衬底之上;第一外延区域,电耦合到第一沟道区域;第二外延区域,在与半导体衬底的主表面垂直的方向上位于第一外延区域正上方;电介质材料,在第一外延区域和第二外延区域之间,第二外延区域通过电介质材料与第一外延区域隔离;栅极电介质,围绕第一沟道区域;以及栅极电极,围绕栅极电介质。
搜索关键词: 包括 外延 源极线 存储 阵列
【主权项】:
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