[发明专利]电镀设备及电镀方法在审
申请号: | 202110295695.0 | 申请日: | 2021-03-19 |
公开(公告)号: | CN115110136A | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
发明(设计)人: | 杨浩基;关耀辉;林儒珑 | 申请(专利权)人: | 先进半导体材料(深圳)有限公司 |
主分类号: | C25D17/00 | 分类号: | C25D17/00;C25D5/08;C25D5/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 徐文欣 |
地址: | 518103 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种电镀设备及电镀方法,电镀设备包括:电镀槽;设置于电镀槽内壁的阴极板卡槽;垂直于电镀槽底面设置的阳极板,所述阳极板与电镀槽可拆卸连接;垂直于电镀槽底面设置的层流板,所述层流板位于阴极板卡槽和阳极板之间,且层流板与阳极板平行,所述层流板可沿垂直于电镀槽底面的方向往复运动。所述电镀设备中的层流板能够提升膜层厚度均匀性。 | ||
搜索关键词: | 电镀 设备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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