[发明专利]MOSFET陷阱辅助隧穿模型及其提取方法在审
申请号: | 202110292260.0 | 申请日: | 2021-03-18 |
公开(公告)号: | CN113139355A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 张瑜;商干兵 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G06F30/30 | 分类号: | G06F30/30;G06F30/20;G06F115/10;G06F119/08 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭四华 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种MOSFET陷阱辅助隧穿模型,陷阱辅助隧穿电流为第一函数和第二函数的乘积;第一函数为与源栅边缘侧壁陷阱辅助隧穿相关的函数;第二函数为和漏极电流相关的函数;第一函数包括的参数包括3个,分别为:jtsswgs,njtsswgs,vtsswgs;jtsswgs为MOSFET的源极栅极边缘侧壁陷阱辅助的饱和电流;njtsswgs为MOSFET的源极栅极边缘侧壁陷阱辅助结的非理想因素;vtsswgs为MOSFET的源极栅极边缘侧壁陷阱辅助的电压参数;jtsswgs、njtsswgs和vtsswgs分别具有温度相关函数项,各参数的温度相关函数项都展开为常数项、温度的一次项直至温度的n次项,常数项和各次项系数都为拟合参数。本发明公开了一种MOSFET陷阱辅助隧穿模型的提取方法。本发明能实现对不同温度下的器件拟合,提高模型精度。 | ||
搜索关键词: | mosfet 陷阱 辅助 模型 及其 提取 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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