[发明专利]一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备在审

专利信息
申请号: 202110255637.5 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113018966A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 钱超;杨柯;牛恩众;余强根 申请(专利权)人: 常州高光半导体材料有限公司
主分类号: B01D36/02 分类号: B01D36/02;B01D29/64;B01D29/68
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董成
地址: 213311 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及环保设备技术领域,且公开了一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备,包括过滤箱,所述过滤箱的底面固定连接有支撑架,所述过滤箱顶部的内侧设置有第一过滤部件,所述第一过滤部件顶部的内侧固定套接有进液管,所述过滤箱中部的内侧设置有自清理部件,所述自清理部件的正面固定安装有同步传动部件。本发明通过第一过滤部件与二次过滤网板相互配合形成双重过滤机构,继而分别对蚀刻机产生的废蚀刻液进行针对大杂质的离心过滤以及针对小杂质的流延过滤,完成对废蚀刻液为循环再生处理前的预处理作业,大大降低后续离子膜电解设备、循环设备等设备的作业负荷以及各种设备内部的存渣量。
搜索关键词: 一种 重复使用 掩膜版 蚀刻 生产 设备
【主权项】:
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