[发明专利]一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备在审
申请号: | 202110255637.5 | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN113018966A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 钱超;杨柯;牛恩众;余强根 | 申请(专利权)人: | 常州高光半导体材料有限公司 |
主分类号: | B01D36/02 | 分类号: | B01D36/02;B01D29/64;B01D29/68 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董成 |
地址: | 213311 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 重复使用 掩膜版 蚀刻 生产 设备 | ||
本发明涉及环保设备技术领域,且公开了一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备,包括过滤箱,所述过滤箱的底面固定连接有支撑架,所述过滤箱顶部的内侧设置有第一过滤部件,所述第一过滤部件顶部的内侧固定套接有进液管,所述过滤箱中部的内侧设置有自清理部件,所述自清理部件的正面固定安装有同步传动部件。本发明通过第一过滤部件与二次过滤网板相互配合形成双重过滤机构,继而分别对蚀刻机产生的废蚀刻液进行针对大杂质的离心过滤以及针对小杂质的流延过滤,完成对废蚀刻液为循环再生处理前的预处理作业,大大降低后续离子膜电解设备、循环设备等设备的作业负荷以及各种设备内部的存渣量。
技术领域
本发明涉及环保设备技术领域,具体为一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备。
背景技术
掩膜版是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,然后把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,而后在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,而蚀刻所采用的蚀刻液则是一种铜版画雕刻用原料,从理论上讲,凡能氧化铜而生成可溶性铜盐的试剂,都可以用来蚀刻敷铜箔板,而随着我国对企业环保等方面重视,蚀刻液的可重复使用课题就成为现技术领域中研究的重点,目前针对蚀刻液的回收再生工艺流程通常为:对蚀刻机加工产生的废蚀刻液进行回收至废液收集设备中,然后进行电解,即将废液收集设备中的废蚀刻液泵送至离子膜电解设备中进行电解,随后再调整酸碱值:即把电解后的废蚀刻液通过管道流入循环设备中,循环设备将废蚀刻液的pH值调配到正常参数,一部分泵送回离子膜电解设备中循环使用,而另一部分则过滤后输送到蚀刻机中,由此实现蚀刻液的重复使用,降低对加工废液对环境的污染,但是在最初的收集工序中缺乏针对性的预处理过滤设备,进而导致了后续各工序设备的处理压力以及效率都有较大的影响,再者现有的一些过滤设备虽然也能解决上述问题,但是普遍存在过滤方式单一,效果不理想以及自身清理麻烦等问题,因此,综上所述问题,本申请提供一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备。
发明内容
本发明提供了一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备,解决了上述背景技术中提出的问题。
本发明提供如下技术方案:一种可重复使用的掩膜版蚀刻液生产设备,包括过滤箱,所述过滤箱的底面固定连接有支撑架,所述过滤箱顶部的内侧设置有第一过滤部件,所述第一过滤部件顶部的内侧固定套接有进液管,所述过滤箱中部的内侧设置有自清理部件,所述自清理部件的正面固定安装有同步传动部件,所述同步传动部件的一侧固定安装有动力部件,所述自清理部件的底部设置有二次过滤网板,所述二次过滤网板固定套接在过滤箱中部的内侧,所述二次过滤网板的底部设置有反冲洗部件和第一泵送部件,所述反冲洗部件以及第一泵送部件的一侧均固定套接在过滤箱底部的内侧,所述过滤箱的底部设置有第二泵送部件。
精选的,所述第一过滤部件的内部包括有过滤网筒,且过滤网筒中部的内侧固定套接有第一传动轴,所述第一传动轴顶部的表面固定安装有轴承套,所述轴承套中部的表面固定套接有密封板,所述密封板通过螺丝固定安装在过滤箱顶部的内侧,所述第一传动轴的顶端固定安装有第一伺服电机。
精选的,所述密封板的表面固定套接有第一密封圈,且第一密封圈活动套接在过滤箱顶部的内侧,所述密封板的顶面固定连接有把手。
精选的,所述自清理部件的内部包括有两个螺旋杆,且两个螺旋杆活动套接在过滤箱中部的内侧,两个所述螺旋杆的底面与二次过滤网板的顶面活动连接,两个所述螺旋杆一端的外侧各设置有一个输渣管,两个所述输渣管的一端均固定套接在过滤箱中部侧壁的内部,两个所述输渣管另一端的表面螺纹连接有防漏盖。
精选的,所述防漏盖的顶面活动连接有第二密封圈,且第二密封圈固定套接在输渣管另一端的表面。
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