[发明专利]银薄膜蚀刻液组合物、蚀刻方法和金属图案的形成方法在审
| 申请号： | 202110215383.4 | 申请日： | 2018-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN113026019A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 南基龙;尹暎晋;李原昊;金童基;朴英哲;张晌勋 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30;H01L21/3213;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金成哲;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种银薄膜蚀刻液组合物及利用该银薄膜蚀刻液组合物的蚀刻方法和金属图案的形成方法，上述银薄膜蚀刻液组合物的特征在于包含：(A)无机酸、(B)有机酸、(C)无机盐和(D)水，所述(C)无机盐为选自硝酸盐和硫酸盐中的一种。银薄膜蚀刻液组合物用于由银(Ag)或银合金构成的单层膜及由上述单层膜和透明导电膜构成的多层膜的蚀刻，提供不发生残渣和银再吸附问题的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 蚀刻 组合 方法 金属 图案 形成 | ||
【主权项】：
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