[发明专利]图像传感器和用于形成图像传感器的方法在审

专利信息
申请号: 202110184179.0 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN113725241A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 王兆圻;曾仲铨;赖佳平;曾思蒨;房业勋 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明的各种实施例涉及用于形成图像传感器的方法,其中,器件层覆盖在衬底上并且具有不同于衬底的半导体材料,并且其中,器件层具有高晶体质量。该方法的一些实施例包括:在衬底上外延生长器件层;图案化器件层以形成将器件层分为与像素相对应的台面结构的沟槽;形成填充沟槽并且分离台面结构的像素间介电层;以及在台面结构中形成光检测器。该方法的其他实施例包括:在衬底上方沉积像素间介电层;图案化像素间介电层以形成与像素相对应的腔;在腔中外延生长台面结构;以及在台面结构中形成光检测器。根据本申请的其他实施例,还提供了图像传感器。
搜索关键词: 图像传感器 用于 形成 方法
【主权项】:
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