[发明专利]半导体结构及半导体结构的制造方法有效

专利信息
申请号: 202110117220.2 申请日: 2021-01-28
公开(公告)号: CN112909169B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 吴宏旻;丁裕生 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L49/02 分类号: H01L49/02
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 李建忠;阚梓瑄
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及半导体技术领域,提出了一种半导体结构及半导体结构的制造方法。半导体结构包括衬底,衬底中形成有电容结构,电容结构包括下极板、介质层、上极板以及保护层,下极板位于衬底上;介质层覆盖在下极板的表面;上极板覆盖介质层;保护层形成在上极板平行于衬底的表面。通过在上极板的上表面形成的保护层能够改善电容结构的电阻性能,以此改善半导体结构的使用性能。
搜索关键词: 半导体 结构 制造 方法
【主权项】:
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