[发明专利]挤出成型薄壁氮化硅管件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110104174.2 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112851367B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 高礼文;孙林帅;孙百忠;尚庆刚;邱章喜;朱鑫宁 申请(专利权)人: 泰晟新材料科技有限公司
主分类号: C04B35/593 分类号: C04B35/593;C04B35/622;C04B35/63;C04B35/632
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 耿霞
地址: 255100 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于陶瓷材料制备领域,具体涉及一种挤出成型薄壁氮化硅管件及其制备方法。所述的挤出成型薄壁氮化硅管件,由如下重量百分比的原料制成:氮化硅粉体80‑98%,镁铝尖晶石1‑5%,氧化钇1‑19%,水16‑35%,木质素磺酸镁0.3‑0.8%,氢氧化铵0.1‑0.3%。本发明的挤出成型薄壁氮化硅管件,抗弯强度高,体积密度大,气孔率低,断裂韧性高,综合性能优异;本发明还提供其制备方法。
搜索关键词: 挤出 成型 薄壁 氮化 硅管件 及其 制备 方法
【主权项】:
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