[发明专利]用于PECVD的工件载体、系统和操作方法在审
| 申请号： | 202110058714.8 | 申请日： | 2021-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN114182233A | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 米尔科·特罗勒;延斯－乌韦·福克斯;拉尔夫·瑞兹;罗兰·莱希特 | 申请（专利权）人： | 商先创国际股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京金恒联合知识产权代理事务所 11324 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 德国布劳*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于等离子体辅助的化学气相沉积系统(50)的工件载体(1)、一种这样的系统(50)以及一种用于此类系统(50)的操作方法(100)。该工件载体(1)被配置为用于从包围该工件载体(1)的处理气体来产生等离子体。根据本发明，该工件载体(1)还被配置为用于将该工件载体(1)的环境加热到为了气相沉积所设置的处理温度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 pecvd 工件 载体 系统 操作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
