[发明专利]溅射沉积在审
| 申请号： | 202080090902.2 | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN114902371A | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | M.伦达尔;R.格鲁尔 | 申请（专利权）人： | 戴森技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/35;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张邦帅 |
| 地址： | 英国威*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种溅射沉积设备，包括：布置为支撑基底的基底支撑组件；布置为支撑至少一个溅射靶的靶支撑组件，该溅射靶用于靶材料到基底上的溅射沉积；布置成为所述溅射沉积提供等离子体的等离子体生成装置；以及布置为容纳在所述溅射沉积之后具有沉积的靶材料的基底的盒。盒可从溅射沉积设备中移出。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 沉积 | ||
【主权项】：
暂无信息
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