[发明专利]具有发射电磁辐射的半导体器件的装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202080054873.4 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN114175286A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: T·施瓦茨;S·威特曼;A·普洛斯尔 申请(专利权)人: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62;H01L33/00;H01L25/075
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;刘春元
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 说明了一种装置(1),具有多个光电子半导体器件(10)、耦合输出元件(20)、电绝缘的绝缘层(30)和电连接结构(40)。所述半导体器件(10)布置在一个共同的平面中,并且每个半导体器件(10)都由侧面(10A)横向界定。所述半导体器件(10)分别具有半导体主体(100),具有被设置用于发射电磁辐射的活性区域(2000),用于耦合输出所述电磁辐射的辐射出射侧(100A),与所述辐射出射侧(100A)相对的背侧(100B),和布置在所述背侧(100B)上的接触结构(101)。所述绝缘层(30)布置在相邻半导体器件(10)的侧面(10A)之间,并且被实施为吸收或反射所述活性区域(2000)中产生的辐射。所述耦合输出元件(20)布置在所述半导体器件(10)的辐射出射侧(100A),所述电连接结构(40)布置在所述半导体器件(10)的面向所述背侧(100B)的侧上,并与所述接触结构(101)导电连接。还说明了一种用于制造装置(1)的方法。
搜索关键词: 具有 发射 电磁辐射 半导体器件 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
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