[发明专利]用于温度控制的化学机械抛光温度扫描设备在审
| 申请号： | 202080041893.8 | 申请日： | 2020-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113993662A | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | H·桑达拉拉贾恩;张寿松;吴昊晟;唐建设 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/015 | 分类号： | B24B37/015;B24B37/04;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 付尉琳;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种化学机械抛光设备，包括平台，具有顶部表面以保持抛光垫；载具头，以在抛光处理期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；以及温度监控系统。温度监控系统包括定位在平台上方的非接触式热传感器，非接触式热传感器具有在平台上的抛光垫的部分的视场。传感器能够由发动机围绕旋转轴旋转，以便跨抛光垫移动视场。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 温度 控制 化学 机械抛光 扫描 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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