[发明专利]用于温度控制的化学机械抛光温度扫描设备

权利要求书

1.一种化学机械抛光设备，包含：

平台，具有顶面以保持抛光垫；

载具头，用于在抛光处理期间保持基板抵靠所述抛光垫的抛光表面；

温度监控系统，包括定位在所述平台上方的非接触式热传感器，以具有在所述平台上的所述抛光垫的部分的视场，所述传感器能够由所述发动机围绕旋转轴旋转，以跨所述抛光垫移动所述视场。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述热传感器能够围绕平行于所述抛光表面的轴旋转。

3.如权利要求1所述的设备，包含耦合至所述发动机的可旋转传感器支撑件，使得由所述发动机旋转所述支撑件而旋转所述传感器。

4.如权利要求3所述的设备，其中所述传感器支撑件能够围绕所述传感器支撑件的纵轴旋转。

5.如权利要求3所述的设备，其中所述热传感器能够围绕垂直于所述支撑件的所述纵轴的轴旋转。

6.如权利要求3所述的设备，其中所述热传感器能够沿着所述支撑件移动。

7.如权利要求1所述的设备，进一步包含控制器，所述控制器耦合至所述发动机和所述温度监控系统，并且被配置成控制所述发动机，以使所述热传感器在所述抛光垫上的多个位置处进行测量。

8.如权利要求7所述的设备，其中所述控制器配置成基于在所述抛光垫上的所述多个位置的测量，产生所述抛光垫的温度曲线。

9.如权利要求8所述的设备，进一步包含加热器和/或冷却器，并且其中所述控制器配置成基于所述温度曲线调整所述加热器和/或所述冷却器的操作，以改善所述抛光垫的温度均匀性。

10.如权利要求8所述的设备，其中所述温度轮廓为径向轮廓。

11.如权利要求8所述的设备，其中所述温度轮廓为围绕所述平台的旋转轴的角度轮廓。

12.如权利要求8所述的设备，其中所述温度轮廓为2D轮廓。

13.一种监控在化学机械抛光系统中的抛光垫的温度的方法，包含：

围绕旋转轴旋转热传感器，使得所述热传感器的视场跨化学机械抛光垫的抛光表面扫掠，同时所述热传感器维持横向稳定；以及

随着所述视场跨所述抛光垫扫掠，利用所述热传感器进行多次测量，以产生温度曲线。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述旋转轴平行于所述抛光表面。

15.如权利要求13所述的方法，其中所述旋转轴垂直于所述抛光表面。