[发明专利]用于浸没式光刻的图像传感器在审
| 申请号： | 202080029265.8 | 申请日： | 2020-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN113728275A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | N·巴纳吉;S·赖克;J·F·M·贝克斯;A·J·唐科布洛克;D·格林姆;P·布拉哈奇;T·拉特耶;M·蒂尔克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于浸没式光刻的图像传感器(17)，该图像传感器包括：光栅(310、320和330)；在光栅上的吸收层(350)，该吸收层被配置为吸收辐射；以及在图像传感器的上表面处的疏液涂层(400)，其中保护层(500)被设置在吸收层与疏液层之间，该保护层对浸液的反应性低于吸收层对浸液的反应性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 浸没 光刻 图像传感器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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