[发明专利]用于浸没式光刻的图像传感器

权利要求书

1.一种用于浸没式光刻的图像传感器，所述图像传感器包括：

光栅；

在所述光栅上的吸收层，所述吸收层被配置为吸收辐射；以及

在所述图像传感器的上表面处的疏液涂层；

其中保护层被设置在所述吸收层与所述疏液层之间，所述保护层对浸液的反应性小于所述吸收层对浸液的反应性。

2.根据权利要求1所述的图像传感器，其中所述保护层由氧化物形成。

3.根据权利要求1或2所述的图像传感器，其中所述保护层由无机材料形成。

4.根据前述权利要求中任一项所述的图像传感器，其中所述保护层由SiO₂形成。

5.根据前述权利要求中任一项所述的图像传感器，其中所述保护层是在光学方面至少半透明的。

6.根据前述权利要求中任一项所述的图像传感器，其中所述光栅包括突出部，其中所述保护层具有垂直于所述突出部的顶部的第一厚度、以及垂直于所述突出部的侧面的第二厚度，其中所述第一厚度是所述第二厚度的至少一半并且是所述第二厚度的至多两倍。

7.根据前述权利要求中任一项所述的图像传感器，其中所述保护层包括较靠近所述吸收层的较致密的子层以及较靠近所述疏液涂层的较粒状的子层。

8.根据前述权利要求中任一项所述的图像传感器，包括所述保护层与所述疏液涂层之间的粘合促进剂。

9.一种制作用于浸没式光刻的图像传感器的方法，所述方法包括：

提供光栅；

在所述光栅上沉积吸收层，所述吸收层被配置为吸收辐射；

在所述吸收层上沉积保护层，所述保护层对浸液的反应性低于所述吸收层对浸液的反应性；以及

沉积疏液涂层，以形成所述图像传感器的上表面。

10.根据权利要求9所述的方法，其中沉积所述保护层的步骤包括：使用原子层沉积以形成沿着所述光栅的突出部的顶部和侧面具有基本均匀厚度的所述保护层。

11.根据权利要求10所述的方法，其中沉积所述保护层的步骤包括：溅射另外的材料以在原子层沉积材料上形成所述保护层。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的方法，包括：

所述保护层的表面的等离子体激活，以增加对所述疏液涂层的粘合。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，包括：

利用惰性离子轰击所述保护层的表面，以增加所述表面的粗糙度。

14.根据权利要求9至13中任一项所述的方法，其中沉积所述疏液涂层的步骤包括：

在较低压力环境中沉积所述疏液涂层的粘性较大的子层；以及

随后在较高压力环境中沉积所述疏液涂层的粘性较小的子层。

15.根据权利要求9至14中任一项所述的方法，其中通过溅射沉积所述吸收层。

16.一种用于浸没式光刻的衬底台，所述衬底台包括被安装在其上的根据权利要求1至8中任一项所述的图像传感器。

17.一种光刻装置包括：

根据权利要求16所述的衬底台；

投影系统，被配置为将来自图案形成装置的图案投影到由所述衬底台保持的衬底上；以及

液体供应系统，被配置为将浸液提供到所述投影系统与所述衬底之间的空间。