[发明专利]确定反射式光刻掩模在其操作环境中的图案元件的放置的装置和方法在审
| 申请号： | 202080024131.7 | 申请日： | 2020-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN113631983A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | C.布拉辛-班格特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B21/36 | 分类号： | G02B21/36;G03F1/84;G03F1/24;G03F1/38;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种用于确定反射式光刻掩模(400)的图案元件(350)在其操作环境(450)中的放置的装置(1000)，其中该装置(1000)包括：(a)至少一个第一构件(1010、1100、1200)，被配置为用于在与操作环境(450)不对应的测量环境(150)中确定反射式光刻掩模(400)的背面(315)的表面不均匀数据(420)和/或反射式光刻掩模(400)的安装件(900)的表面不均匀数据(930)；(b)至少一个第二构件(1020、1200)，被配置为用于在测量环境(150)中确定图案元件(350)的放置数据；以及(c)至少一个计算单元(1040)，被配置为根据所确定的背面(315)和/或安装件(900)的表面不均匀数据(420、930)及所确定的放置数据计算反射式光刻掩模(400)的图案元件(350)在操作环境(450)中的放置。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 反射 光刻 操作 环境 中的 图案 元件 放置 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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