[发明专利]确定反射式光刻掩模在其操作环境中的图案元件的放置的装置和方法

权利要求书

1.一种用于确定反射式光刻掩模(400)在其操作环境(450)中的图案元件(350)的放置的装置(1000)，包括：

a.至少一个第一构件(1010、1100、1200、1500)，被配置为用于在与所述反射式光刻掩模(400)的操作环境(450)不对应的测量环境(150)中确定所述反射式光刻掩模(400)的背面(315)的表面不均匀数据(420)和/或所述反射式光刻掩模(400)的安装件(900)的表面不均匀数据(930)；

b.至少一个第二构件(1020、1200)，被配置为用于在所述测量环境(150)中确定所述图案元件(350)的放置数据；以及

c.至少一个计算单元(1040)，被配置为根据所确定的背面(315)和/或安装件(900)的表面不均匀数据(420、930)及所确定的放置数据计算所述反射式光刻掩模(400)的图案元件(350)在所述操作环境(450)中的放置。

2.根据权利要求1所述的装置(1000)，其中，所述至少一个第二构件(1020、1200)附加地被配置为确定所述反射式光刻掩模(400)的正面(325)的表面不均匀数据，并且所述计算单元(1040)还被配置为当计算所述图案元件(350)的放置时考虑所确定的正面(325)的表面不均匀数据。

3.根据前述权利要求中任一项所述的装置(1000)，其中，所述至少一个第一构件(1010)和/或所述至少一个第二构件(1020)被配置为从一个或多个外置测量装置获得所述背面(315)、所述正面(325)和/或所述安装件(900)的表面不均匀数据(420、930)以及所述图案元件的放置。

4.根据前述权利要求中任一项所述的装置(1000)，其中，所述至少一个第一构件(1010、1100、1200)包括第一测量单元(1100)，其被配置用于在与所述操作环境(450)不对应的环境(150)中确定所述背面(315)的表面不均匀数据(420)。

5.根据前述权利要求中任一项所述的装置(1000)，其中，所述至少一个第二构件(1020、1200)包括第二测量单元(1200)，其被配置用于在与所述操作环境(450)不对应的环境(150)中确定所述图案元件(350)的放置数据。

6.根据前述权利要求中任一项所述的装置(1000)，其中，所述计算单元(1040)被配置为确定所述图案元件(350)在所述操作环境(450)中相对于所述反射式光刻掩模(400)的安装件(430)的放置。

7.根据前述权利要求中任一项所述的装置(1000)，其中，所述计算单元(1040)被配置为确定所述图案元件(350)相对于在所述操作环境(450)中的设计数据的至少一个偏差。

8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述计算单元(1040)还被配置为根据所述图案元件(350)的放置的至少一个偏差和/或根据所确定的表面不均匀数据(420)确定像素的至少一个布置，所述像素的至少一个布置校正所述至少一个偏差和/或所述背面(315)表面不均匀(420)。

9.根据前述权利要求中任一项所述的装置(1000)，其中，所述计算单元(1040)被配置为确定所述反射式光刻掩模(400)的图案元件(350)在所述操作环境(450)中相对于静电卡盘(430)的放置，所述静电卡盘的表面设定为理想平坦的。

10.根据权利要求3-9中任一项所述的装置(1000)，其中，所述第一测量单元(1100)包括用于可见光波长范围的第一光源(1110)和/或用于深紫外波长范围的第二光源(1110)。

11.根据权利要求4-10中任一项所述的装置(1000)，其中，所述第二测量单元(1200)包括用于可见光波长范围的第三光源(1210)和/或用于深紫外波长范围的第四光源(1210)。