[发明专利]钴或铜合金的电沉积及其在微电子学中的用途在审

专利信息
申请号: 202080012535.4 申请日: 2020-02-06
公开(公告)号: CN113383115A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 文森特·梅费里克;路易斯·凯拉德;米卡卢·蒂亚姆;多米尼克·祖尔 申请(专利权)人: 阿文尼公司
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56;C25D5/34;C25D5/50;C25D7/12;H01L21/768
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 孙雪;杨国强
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 钴或铜合金的电沉积以及在微电子学中的用途。本发明涉及制造钴或铜互连的方法,以及能够实施所述方法的电解液。pH小于4.0的电解液包含钴离子或铜离子、氯离子、锰离子或锌离子以及至多两种低分子量的有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸。
搜索关键词: 铜合金 沉积 及其 微电子学 中的 用途
【主权项】:
暂无信息
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