[发明专利]钴或铜合金的电沉积及其在微电子学中的用途在审
申请号: | 202080012535.4 | 申请日: | 2020-02-06 |
公开(公告)号: | CN113383115A | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 文森特·梅费里克;路易斯·凯拉德;米卡卢·蒂亚姆;多米尼克·祖尔 | 申请(专利权)人: | 阿文尼公司 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;C25D5/34;C25D5/50;C25D7/12;H01L21/768 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 孙雪;杨国强 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 钴或铜合金的电沉积以及在微电子学中的用途。本发明涉及制造钴或铜互连的方法,以及能够实施所述方法的电解液。pH小于4.0的电解液包含钴离子或铜离子、氯离子、锰离子或锌离子以及至多两种低分子量的有机添加剂。这些添加剂中的一种可以是α‑羟基羧酸。 | ||
搜索关键词: | 铜合金 沉积 及其 微电子学 中的 用途 | ||
【主权项】:
暂无信息
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