[实用新型]一种基片托盘及其所在的反应器有效
| 申请号： | 202023270678.1 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN214271039U | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 姜勇;丁伟 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/18 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种支撑待处理基片的基片托盘及其所在的反应器，用于倒装基片进行薄膜生长。所述基片托盘包括侧壁和侧壁围绕而成的中心开口，所述侧壁内侧包括第一台阶部用于放置一热扩散板，所述第一台阶部下方包括一第二台阶部，所述第二台阶部上表面设置有一隔热装置，所述隔热装置用于支撑待处理基片的第一表面，所述第一台阶部的内侧壁直径大于所述第二台阶部内侧壁直径。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 托盘 及其 所在 反应器 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
