[实用新型]一种具有清洗装置的硅片加工设备

摘要

本实用新型涉及硅片加工技术领域，且公开了一种具有清洗装置的硅片加工设备，包括壳体，所述壳体的内部活动连接有推板，所述推板的顶部固定连接有放置块，所述放置块的顶部开设有容纳槽，所述容纳槽的内部设有硅片本体，所述壳体后侧的内壁活动连接有移动板，所述移动板的正面固定连接有安装块，所述安装块的底部固定安装有清洁垫。该具有清洗装置的硅片加工设备，通过盒体底部的五个输水管分别与五个安装块的顶部插接，使盒体内的洗涤液流入五个安装块内并最终流至各清洁垫的底端，通过移动板水平移动，使五个清洁垫同时对放置块内的五个硅片本体的表面进行刮洗，且各硅片清洗情况相同，从而便于各硅片清洗干净。