[实用新型]一种气相沉积半导体设备内多孔部件的清洗装置有效

专利信息
申请号: 202022821134.3 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN213996980U 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 张胜心;贺贤汉;朱光宇;王松朋;张正伟;李泓波 申请(专利权)人: 富乐德科技发展(大连)有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 盖小静
地址: 116600 辽宁省大连市保税区*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种气相沉积半导体设备内多孔部件的清洗装置,包括固定盖板和清洗固定治具,所述固定盖板为圆环结构;所述清洗固定治具包括固定盘,该固定盘中部设有冲洗孔,所述冲洗孔下面连接有转接头,所述固定盘上部设有一圈凸棱,该凸棱顶部设有容置槽,所述容置槽中安装有密封圈,所述固定盘底部四周设有支脚;所述固定盖板、清洗固定治具位于药液储存槽中。本申请清洗装置结构简单,省时省力,不需要人为操作;通过液体流量计来检测药液流量,然后根据实际使用情况气压显示调节阀调节压缩空气压力大小,进而来控制药液穿过多孔部件上环形通孔的高度,实现精准清洗目的。
搜索关键词: 一种 沉积 半导体设备 多孔 部件 清洗 装置
【主权项】:
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