[实用新型]一种SiC基MOS器件有效

专利信息
申请号: 202022768415.7 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN213242540U 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 王金秋;关世瑛 申请(专利权)人: 上海芯石微电子有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/16;H01L29/78
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201600 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种SiC基MOS器件,包括金属散热底板,所述金属散热底板开设有凹槽,所述凹槽放置有MOS管主体,所述MOS管主体包括引脚,所述金属散热底板开设有两个扣槽,两个所述扣槽开设有滑槽,所述滑槽滑动匹配有压块,所述压块与滑槽之间连接有弹簧,所述金属散热底板铰接有金属散热盒盖,所述金属散热盒盖两侧及顶部均设有散热片,所述金属散热盒盖顶部开设有散热孔,所述金属散热盒盖开设有插槽,所述插槽匹配有吸尘网,所述金属散热盒盖开设有与引脚位置对应的让孔,所述金属散热盒盖连接有两个位置对应扣槽的Z型扣块。
搜索关键词: 一种 sic mos 器件
【主权项】:
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