[实用新型]一种传输装置镀膜设备有效
申请号: | 202022115404.9 | 申请日: | 2020-09-23 |
公开(公告)号: | CN213388893U | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 孙劲松;孔凡涛;陆再超 | 申请(专利权)人: | 无锡吉易特半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/50;C23C16/26;C23C16/458;C23C16/56;C23C16/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214194 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉镀膜技术领域,尤其涉及一种传输装置镀膜设备,包括碳膜沉积反应腔;还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室;镀膜腔室和缓冷腔固定在工作台,镀膜腔室的另一侧壁开设进料口,进料口处设有一号传送带,且一号传送带一端位于进料口处,一号传送带的另一端从而碳膜沉积反应腔的进口伸入碳膜沉积反应腔内,碳膜沉积反应腔的出口处设有镀膜单元;镀膜单元包括镀膜槽和打捞板;镀膜槽的一侧位于碳膜沉积反应腔的出口处,镀膜槽内侧壁上铰接打捞板,且打捞板的中心位置与外界的电机输出轴连接,镀膜槽的另一侧下方设有二号传送带,且二号传送带位于镀膜腔室和缓冷腔室之间;缓冷腔室用于减缓物料的冷却速度。 | ||
搜索关键词: | 一种 传输 装置 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的