[实用新型]一种传输装置镀膜设备

说明书

本实用新型涉镀膜技术领域，尤其涉及一种传输装置镀膜设备，包括碳膜沉积反应腔；还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室；镀膜腔室和缓冷腔固定在工作台，镀膜腔室的另一侧壁开设进料口，进料口处设有一号传送带，且一号传送带一端位于进料口处，一号传送带的另一端从而碳膜沉积反应腔的进口伸入碳膜沉积反应腔内，碳膜沉积反应腔的出口处设有镀膜单元；镀膜单元包括镀膜槽和打捞板；镀膜槽的一侧位于碳膜沉积反应腔的出口处，镀膜槽内侧壁上铰接打捞板，且打捞板的中心位置与外界的电机输出轴连接，镀膜槽的另一侧下方设有二号传送带，且二号传送带位于镀膜腔室和缓冷腔室之间；缓冷腔室用于减缓物料的冷却速度。

技术领域

本实用新型涉镀膜技术领域，尤其涉及一种传输装置镀膜设备。

背景技术

在试验P5000PECVD生长碳膜的过程中，发现衬底基片周围一圈有碳膜剥落，经多次试验后，发现当衬底基片在反应腔中400度环境下完成碳膜的沉积后，传出碳膜沉积反应腔，遇到室温的BLADE和ELEVATOR,而这两者是由金属制成，导热异常迅速，导致衬底基片及碳膜温度的迅速下降，从而产生应力变化，碳膜出现剥落现象，为此在金属制成的BLADE和ELEVATOR上镀一层绝热膜，减少衬底基片和金属件之间的热传导，从而阻止温度的急剧变化，减少碳膜的剥落。

实用新型内容

本实用新型解决的问题在于提供一种传输装置镀膜设备，通过在金属制成的BLADE和ELEVATOR上镀一层绝热膜，减少衬底基片和金属件之间的热传导，从而阻止温度的急剧变化，减少碳膜的剥落。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种传输装置镀膜设备，包括碳膜沉积反应腔；还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室；所述镀膜腔室和缓冷腔固定在工作台，且镀膜腔室的一侧与缓冷腔室的一侧连通；所述镀膜腔室的另一侧壁开设进料口，进料口处设有一号传送带，且一号传送带一端位于进料口处，一号传送带的另一端从而碳膜沉积反应腔的进口伸入碳膜沉积反应腔内，碳膜沉积反应腔的出口处设有镀膜单元；所述镀膜单元包括镀膜槽和打捞板；所述镀膜槽的一侧位于碳膜沉积反应腔的出口处，镀膜槽内侧壁上铰接打捞板，且打捞板的中心位置与外界的电机输出轴连接，镀膜槽的另一侧下方设有二号传送带，且二号传送带位于镀膜腔室和缓冷腔室之间；所述缓冷腔室用于减缓物料的冷却速度。

优选的，所述镀膜腔室的上端面设有储料桶，储料桶内承装有镀膜原料，储料桶的下端设有导管，导管一端与储料桶连通，导管的另一端位于镀膜槽的一侧上方，且导管上设有流量调节阀。

优选的，所述打捞板由聚氯乙烯塑料材质制成，打捞板上均匀开设多个通孔，打捞板的端部设有辅助板；所述辅助板呈圆弧状，辅助板的端部为尖端，且辅助板由橡胶材料制成。

优选的，所述缓冷腔室内设有加热电阻丝、翻转板和三号传送带；所述缓冷腔室的侧壁上设有一层保温棉，保温棉上安置加热电阻丝，加热电阻丝的下方为二号传送带、翻转板和三号传送带；所述翻转板位于二号传送带端部的下方，翻转板的中心位置连接外界电机的输出轴端部，翻转板一侧的下方为三号传送带的一端，三号传送带的另一端位于缓冷腔室的出口处。

优选的，所述翻转板的横截面呈中间内凹，两侧凸起的形状，且翻转板呈镂空状。

优选的，所述缓冷腔室的出口处设有预存箱；所述预存箱滑动连接在缓冷腔室的出口内，且预存箱的内侧壁包裹一侧保温棉。

优选的，所述二号传送带和三号传送带的表面均匀设有凸台。

本实用新型的有益效果是：

在金属制成的BLADE和ELEVATOR上镀一层绝热膜，减少衬底基片和金属件之间的热传导，从而减缓BLADE和ELEVATOR温度的急剧变化，从而减少碳膜的剥落，不改变原有的传片模式，省时省力，节约了生产成本，结构简单合理，有益于生产。