[实用新型]半导体衬底晶片生产废水处理系统有效

专利信息
申请号: 202022073617.X 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN213266067U 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 段昊楠;孔令帅;张连忠;林琛雨;陈彦涛 申请(专利权)人: 青岛世宇环境工程有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04
代理公司: 山东重诺律师事务所 37228 代理人: 王鹏里
地址: 266000 山东省青岛市崂山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了半导体衬底晶片生产废水处理系统,包括支架,两个支架之间固定安装有中和箱和排液斗,中和箱的上表面右侧固定安装有进液管,中和箱的下端固定安装有电磁阀,中和箱的下表面左侧固定安装有驱动装置,驱动装置的右侧安装有过滤装置,过滤装置位于排液斗的上侧,过滤装置包括安装在驱动装置内侧的支撑筒,支撑筒的内部下端固定安装有过滤网,过滤网为半球形结构,过滤网的下端固定安装有振动器,支撑筒和过滤网的内侧紧密贴合有复合过滤袋,复合过滤袋的开口位于电磁阀的下侧。本装置能够在中和废水后,对合格水中掺杂或产生的杂质进行过滤分离,以便无害化处理,使排放的水更安全环保。
搜索关键词: 半导体 衬底 晶片 生产 废水处理 系统
【主权项】:
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