[实用新型]一种高速自动半导体等离子清洗设备有效
| 申请号： | 202022006335.8 | 申请日： | 2020-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN212991034U | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 高友浪;杨恒 | 申请（专利权）人： | 深圳市轴心自控技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;B08B7/00 |
| 代理公司： | 深圳众邦专利代理有限公司 44545 | 代理人： | 罗郁明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道大富社区桂月路*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种高速自动半导体等离子清洗设备，包括机架和设置于所述机架上的三轴龙门机构、等离子清洗头、输送机构、自动上料机构、自动下料机构、识别机构、废气处理系统，所述输送机构横向设置于所述机架上，所述三轴龙门机构横跨于所述输送机构的上方，所述等离子清洗头设置于所述三轴龙门机构的工作端，所述自动上料机构、自动下料机构、输送机构均至少为两组，两组以上的自动上料机构、自动下料机构、输送机构在所述机架上横向平行设置；本实用新型完成产品的自动上下料，通过输送机构精确传送，使等离子清洗头快速定位到需要清洗的产品位置，提高了设备的清洗效率，能够兼容不同规格的产品，具有良好的市场应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高速 自动 半导体 等离子 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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