[实用新型]一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统有效
| 申请号: | 202021662200.0 | 申请日: | 2020-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN213113506U | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
| 发明(设计)人: | 朱振龙 | 申请(专利权)人: | 上海昇泓科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511 |
| 代理公司: | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 余鹏锦 |
| 地址: | 200120 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,包括上下分离式腔体与升降托架,上下分离式腔体包括上腔体以及位于上腔体下方的下腔体,上腔体与下腔体采用胶圈密封对接。升降托架在上腔体需要打开时,用于将上腔体抬升从下腔体上分离开,升降托架在上腔体需要闭合时,将上腔体盖合在下腔体上。相比于现有的微波等离子化学气相沉积系统,该系统取消了开合取样的仓门,改为抬升上腔体获得开放空间形式。使得放置样品的升降基台从非常狭窄、局促的空间变为开放式空间,大大方便了样品的取放。活动的空间大大增强,不在局限于仓门狭小的通道,使腔体能够彻底清理干净,且非常易于操作,减少了大量人力与污染几率,提高成品良率。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 无仓门 式微 等离子 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





