[实用新型]一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统有效
| 申请号: | 202021662200.0 | 申请日: | 2020-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN213113506U | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
| 发明(设计)人: | 朱振龙 | 申请(专利权)人: | 上海昇泓科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511 |
| 代理公司: | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 余鹏锦 |
| 地址: | 200120 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 无仓门 式微 等离子 化学 沉积 系统 | ||
1.一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,其特征在于:包括上下分离式腔体与升降托架(2),所述上下分离式腔体包括上腔体(11)以及位于所述上腔体(11)下方的下腔体(12),所述上腔体(11)与所述下腔体(12)采用胶圈密封对接;
所述升降托架(2)在所述上腔体(11)需要打开时,用于将所述上腔体(11)从所述下腔体(12)上分离开,所述升降托架(2)在所述上腔体(11)需要闭合时,用于将所述上腔体(11)盖合在所述下腔体(12)上。
2.根据权利要求1所述的一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,其特征在于:所述升降托架(2)包括执行机构与支架(22),所述支架(22)的一侧与所述上腔体(11)的外侧壁固定连接,所述执行机构用于驱动所述支架(22)从而带动所述上腔体(11)上下移动。
3.根据权利要求2所述的一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,其特征在于:所述执行机构配置为气缸(21),所述气缸(21)的推杆的顶端设置有支撑块(23),所述支撑块(23)的上方设置有驱动板(24),所述驱动板(24)固定在所述支架(22)上,所述支撑块(23)与所述驱动板(24)的底面可接触分离。
4.根据权利要求2所述的一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,其特征在于:所述支架(22)的四角分别设置有直线滑轨(25),所述直线滑轨(25)嵌设直线轴承(29)中,所述直线轴承(29)固定在支撑板(28)中,所述直线滑轨(25)与所述支撑板(28)垂直滑动连接。
5.根据权利要求4所述的一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,其特征在于:所述支架(22)的下方设置有底座(26),所述底座(26)周边设置有缓冲器(27),所述缓冲器(27)的顶部高于所述底座(26)以及所述下腔体(12)的顶面,且靠近所述支架(22)的底面。
6.根据权利要求5所述的一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,其特征在于:所述支撑板(28)设置在所述支架(22)的下方,所述支撑板(28)上固定所述下腔体(12)、所述底座(26)、所述执行机构、所述缓冲器(27)和所述直线轴承(29)。
7.根据权利要求2所述的一种无仓门式微波等离子化学气相沉积系统,其特征在于:所述支架(22)的上方设置有用于承托微波电源的承托平台(35)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海昇泓科技有限公司,未经上海昇泓科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021662200.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种适用于压铸件的打磨工作台
- 下一篇:一种锡焊自动翻转机构
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





