[实用新型]用于镀膜设备的镀膜组件

摘要

本实用新型提供一种用于一镀膜设备的镀膜组件，所述镀膜装置包括一反应腔和一支撑架，所述镀膜组件包括一单体释放源以及一等离子激发源。所述支撑架具有一支撑区以供支撑所述基材。所述单体释放源具有一释放进口以供引出一膜层形成材料进入所述反应腔。所述等离子激发源被安置以供激活所述膜层形成材料，其中所述支撑架的所述支撑区被定位于介于所述单体释放源和所述等离子激发源之间，使得所述膜层被均匀地形成于所述基材的表面，且沉积速度加快。