[实用新型]可过滤电镀液槽及晶圆电镀设备有效
| 申请号： | 202020926690.4 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN213086164U | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 王振荣;刘红兵 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/22 | 分类号： | C25D21/22;C25D21/06;C25D7/12;C25D17/10;C25D21/00;C25D21/10 |
| 代理公司： | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种可过滤电镀液槽及晶圆电镀设备。该可过滤电镀液槽包括：底座；阳极，所述阳极安装在所述底座上；和过滤膜，所述过滤膜安装在所述底座上并位于所述阳极的轴向一侧，用于过滤电镀液中的杂质。本实用新型提供的可过滤电镀液槽及晶圆电镀设备中，电镀液进入电镀液槽后会经过过滤膜，可排除电镀液中的气泡等杂质。电镀液的气泡等杂质被去除，电镀液的分布均匀，可获得较佳的电镀效果。过滤膜为阳离子选择性半透膜，只允许阳离子通过，阻止高分子材料通过，尤其是阻止电镀液中的高分子添加剂通过，可避免高分子添加剂与阳极接触而产生反应，避免高分子添加剂无谓的消耗，避免浪费，高分子添加剂可使用时间长。 | ||
| 搜索关键词： | 过滤 电镀 设备 | ||
【主权项】：
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